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Nevaco Global
3 de agosto de 2026

La litografía DUV China no es la mayor amenaza para ASML: los analistas señalan otra vía que pone en jaque a Europa

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El desplome bursátil de ASML tras conocerse la máquina china de DUV esconde un riesgo mayor. La Match Act estadounidense podría cortar el servicio a las fábricas chinas y acelerar su autonomía tecnológica, una dinámica que preocupa en Bruselas.

He seguido de cerca el comportamiento de ASML en los mercados durante la última semana. El lunes 27 de julio, las acciones del gigante neerlandés se desplomaron más de un 8 % en la sesión estadounidense. El motivo: un informe del South China Morning Post revelaba que China había comenzado a fabricar sus propias máquinas de litografía deep ultraviolet (DUV) por inmersión, un salto tecnológico que muchos inversores interpretaron como el principio del fin del monopolio europeo. Sin embargo, al cruzar los datos y las reacciones de los analistas, el verdadero riesgo para ASML no se encuentra en la factoría china de Shanghái, sino en un despacho del Capitolio en Washington.

Según fuentes anónimas citadas por el rotativo hongkonés, la empresa respaldada por el Estado chino produciría unas cinco unidades DUV este año y alrededor de veinte en 2027. Los primeros sistemas irían destinados a Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), Hua Hong Semiconductor y ChangXin Memory Technologies (CXMT). Las bolsas continentales reaccionaron con euforia: Zhangjiang Hi-Tech, Yongxin Optics y otras firmas tocaron el límite diario de subida.

Los números que maneja Pekín son modestos. Fabricar cinco máquinas en 2026 y veinte dentro de dos años no altera de inmediato un mercado en el que ASML ingresa más de 27 000 millones de euros al año. Pero los inversores temieron una espiral de sanciones y contramedidas que acelere la autosuficiencia china. Ese temor, no obstante, ha sido matizado por los especialistas.

Sin embargo, Paul Triolo, socio y responsable de política tecnológica en DGA-Albright Stonebridge Group, rebaja las expectativas. La cita es clara:

“Fabricar máquinas de la complejidad de la litografía DUV por inmersión que sean comercialmente viables y que funcionen las 24 horas del día, los siete días de la semana, durante todo un año, es extraordinariamente difícil” — Paul Triolo, DGA-Albright Stonebridge Group.

William Beavington, analista de Jefferies, añade que informes previos sobre avances en DUV resultaron ser falsos. Y subraya que las fundiciones chinas seguirán comprando equipos importados mientras puedan. Los datos le respaldan: las importaciones de equipos de semiconductores en la provincia de Anhui, donde se asienta CXMT, alcanzaron los 226 millones de dólares solo en marzo, más del doble del promedio mensual del segundo semestre de 2024, según Bank of America. La litografía representó el 57 % de esa factura.

“China, sin duda, seguirá comprando máquinas de ASML mientras pueda, debido a su calidad significativamente superior” — William Beavington, analista de Jefferies.

Para Triolo y Beavington, la auténtica amenaza para ASML no es la máquina fabricada en Shanghái, sino la Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware Act (Match Act), que sigue tramitándose en el Congreso estadounidense. Aprobada por el Comité de Asuntos Exteriores de la Cámara en abril, pero aún sin llegar al pleno, esta norma prohibiría la venta de sistemas DUV de inmersión a países “preocupantes” e impondría restricciones muy duras al servicio técnico y la asistencia en las principales instalaciones de fabricación de semiconductores.

“Si la Match Act obligara a ASML a retirar a sus ingenieros, los esfuerzos chinos en DUV de inmersión recibirían un impulso enorme” — Paul Triolo.

Es decir, cortar el acceso a los técnicos que mantienen los equipos actuales forzaría a las fábricas chinas a acelerar la adopción de maquinaria doméstica, lo que a su vez aceleraría su desarrollo. Una paradoja regulatoria que ya se ha visto en otras categorías de equipamiento: las restricciones a los proveedores estadounidenses han disparado la localización china. Según Bernstein Research, la autosuficiencia china en equipos de fabricación de obleas subió del 16 % en 2024 al 21 % el año pasado, con crecimientos del 67 % en deposición y del 37 % en grabado seco.

La Match Act pondría en jaque una parte sustancial del negocio asiático de ASML y, por extensión, del sector tecnológico europeo. Un recorte en los ingresos del fabricante neerlandés arrastraría al índice AEX de Ámsterdam y a los fondos de pensiones europeos que tienen posiciones en él. Además, la restricción de servicio técnico a las fábricas chinas desestabilizaría toda la cadena mundial de semiconductores, elevando los costes de los chips de memoria y lógica que nutren a la automoción alemana, a la electrónica de consumo francesa y a la industria española de componentes.

La lección que dejan los analistas es clara: el mayor riesgo para la hegemonía europea en litografía no está en la máquina que China logre ensamblar, sino en la ley que Washington sea capaz de aprobar. Y, mientras tanto, los técnicos de ASML siguen siendo la pieza más codiciada en esta partida geopolítica de alta precisión.

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